UL6000 Fab 氦气检漏仪
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用于半导体应用的氦气检漏仪系列
INFICON UL6000 氦气检漏仪旨在满足最为苛刻的泄漏检测应用的要求。UL6000采用INFICON专有软件算法I·CAL和HYDRO·S，采用经过现场验证的真空设计，提供了测试灵活性、高灵敏度和快速准确的结果，使任何泄漏检测应用程序快速而简单。
UL6000 在所有测试范围内均可实现快速响应，从达到测试条件到获得最终结果的整个周期时间极其短暂。此专门设计的真空架构可以提供持续高速的氦气泵速以及极其快的响应，能够满足您的需求。
高效泄漏测试
泄漏检测既耗时又复杂。通过测量上升率（RoR），半导体和真空设备在运行过程中受到持续监控。在通过该整体泄漏测试显示泄漏后，使用氦气喷射（喷氦）方法定位泄漏位置，以便进行所需的维修。随后是另一次使用压力增加或所谓的真空衰减测量的泄漏测试——这是一个复杂的过程，需要重复进行，直到检测到所有泄漏。此外，为了尽可能精确，对于大的设备体积，该程序的测量时间通常特别长。得益于我们的智能上升率功能I·RISE，新的UL6000 Fab PLUS现在可以单独进行压力上升测量，并将其与氦气喷射(喷氦）方法相结合。我们的专利系统使测量时间大幅下降，从而有助于最大限度地减少泄漏测试和晶圆厂设备维护的一般时间。体验更快、更超前。